半導體製程中常需用到高純度化學品,以供洗淨、蝕刻、濺鍍、熱氧化、離子注入等程序之 用,下列何種化學品可被用於蝕刻的製程上

題目

半導體製程中常需用到高純度化學品,以供洗淨、蝕刻、濺鍍、熱氧化、離子注入等程序之 用,下列何種化學品可被用於蝕刻的製程上

1. (1) N H O H
2. (2) H O
3. (3) A s F
4. (4) H F

官方答案

(4) H F

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