民國97年 第2梯次 化工丙級 學科
第42題
半導體所需的矽是以何種還原方法獲得?
題目
半導體所需的矽是以何種還原方法獲得?
- (1) 用焦煤還原S i O
- (2) 用鎂還原S i O
- (3) 用H 還原 S i C l
- (4) 用鎂還原S i C l
官方答案
(3) 用H 還原 S i C l
解析
半導體級矽純度須達 9N 以上，製程採西門子法：先將冶金級粗矽與氯化氫反應生成三氯矽烷（SiHCl₃），經蒸餾純化後，再以氫氣在高溫下還原，析出高純度多晶矽。選項 3 所述即為以氫還原氯化矽的作法。至於以焦煤還原二氧化矽，只能得到純度約 98～99% 的冶金級矽，仍含大量雜質，不能直接用於半導體；以鎂還原則常用於鈦、鋯等金屬的製備，並非矽的工業純化方法。
AI 參考解析（推得答案已與官方答案比對一致），非官方公告內容，僅供備考參考。