活動局部義齒（RPD）的置入途徑，會將工作模型上殘留齒與殘嵴的倒凹（undercut）區域進行封凹（blockout），關於封凹的敘述，下列何者正確？

題目

活動局部義齒（RPD）的置入途徑，會將工作模型上殘留齒與殘嵴的倒凹（undercut）區域進行封凹（blockout），關於封凹的敘述，下列何者正確？ A. 封凹時，要先在工作模型上鋪陳一層石蠟，作為封凹的空隙 B. 在與RPD 牙架設計無關的部分進行平行封凹（parallel blockout） C. 若上顎之設計為旋轉置入（rotational path）RPD 時，需要進行旋轉式封凹 D. 與置入途徑平行一致的封凹方式稱為隨意封凹（arbitrary blockout）

官方答案

• 答案：C. 若上顎之設計為旋轉置入（rotational path）RPD 時，需要進行旋轉式封凹

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