關於活動局部義齒裝戴一段期間後，會透過換底（rebase）或換底墊（reline）方式進行修復的敘述，下列選項何者正確？①換底墊是以新材料完全置換義齒基底 ②換…

題目

關於活動局部義齒裝戴一段期間後，會透過換底（rebase）或換底墊（reline）方式進行修復的敘述，下列選項何者正確？①換底墊是以新材料完全置換義齒基底 ②換底是以新材料重新鋪義齒基底組織面 ③需要印模時，可利用既有義齒基底加以修改成個人牙托來進行 ④換底或換底墊時，口腔組織必須處於健康狀態 A. 僅①② B. ①②③ C. ②③④ D. 僅③④

官方答案

• 答案：D. 僅③④

官方資料

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