民國112年 專技高考 牙體技術師 牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)
第12題
在製作全口活動義齒個人印模牙托時,關於緩壓(relief)的敘述,下列何者錯誤?
題目
在製作全口活動義齒個人印模牙托時,關於緩壓(relief)的敘述,下列何者錯誤? A. 藉此可達到選擇性加壓的印模 B. 受到咬合力會痛的地方需緩壓 C. 下顎頰棚處需緩壓 D. 臼齒後墊需緩壓
官方答案
- 答案:C. 下顎頰棚處需緩壓
官方資料
答案以考選部公告之測驗式試題標準答案 PDF 為準。