民國99年 第3梯次 電力電子乙級 學科

第34題

較適合製造高容量記憶體者為

題目

較適合製造高容量記憶體者為

  1. (1) S R A M
  2. (2) E P R O M
  3. (3) E E P R O M
  4. (4) D R A M

官方答案

(4) D R A M

解析

DRAM 的記憶胞由一個電晶體與一個電容組成,結構簡單、單位面積儲存密度高、每位元成本低,因此最適合製造高容量記憶體;缺點是需要週期性刷新。SRAM 通常由多個電晶體組成,速度快但密度低;EPROM 與 EEPROM 雖具非揮發性,記憶胞結構較複雜,並不以高容量與低成本取勝。

AI 參考解析(推得答案已與官方答案比對一致),非官方公告內容,僅供備考參考。

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