活動局部義齒支架的蠟型設計是在耐火模型（refractory cast）上進行，關於耐火模型製作的敘述，下列何者錯誤？

題目

活動局部義齒支架的蠟型設計是在耐火模型（refractory cast）上進行，關於耐火模型製作的敘述，下列何者錯誤？ A. 工作模型經印模複製後所得到的陰模，將耐火模材料灌入所取得的模型稱為耐火模型 B. 製作耐火模型時常使用石膏系包埋材或磷酸鹽系包埋材 C. 為了使雕蠟成型更容易操作，會透過表面處理將耐火模型形成粗糙的表面 D. 耐火模型常見之表面處理方法為浸蠟法

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• 答案：C. 為了使雕蠟成型更容易操作，會透過表面處理將耐火模型形成粗糙的表面

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