民國110年 專技高考 牙體技術師 牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)考古題與答案

民國110年 專技高考 牙體技術師 牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)收錄考選部官方試題與測驗式試題標準答案,共 50 題可線上瀏覽。

官方資料

答案以考選部公告之測驗式試題標準答案 PDF 為準。

題目與答案

第1題

關於全口活動義齒的構造與種類,下列敘述何者錯誤? A. 牙齦結構的上下前後應呈隆凸狀(convex) B. 牙齦新月外型的最高點在上顎正中門齒的中間 C. 需要高度磨光義齒表面以方便清潔 D. 傳統式即裝全口義齒要有合理且明確的咬合止點(occlusal stop)

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  • 答案:C. 需要高度磨光義齒表面以方便清潔

第2題

關於拔牙後立即全口義齒(immediate complete denture)的製作及注意事項,下列敘述何者錯誤? A. 目的在維持患者的美觀及咬合關係 B. 為避免傷口感染,患者必須在拔牙後24 小時,才開始配戴立即全口義齒 C. 可以在模型上依據美觀、排列之需求加以修整 D. 無須製作後緣封閉(posterior palatal seal)

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  • 答案:B. 為避免傷口感染,患者必須在拔牙後24 小時,才開始配戴立即全口義齒

第3題

關於全口活動義齒使用金屬基底與樹脂基底的比較,下列敘述何者錯誤? A. 金屬基底的全口活動義齒比較不容易進行襯底(relining) B. 金屬基底的全口活動義齒比較不密貼 C. 金屬基底的全口活動義齒溫度傳導性質比較好 D. 金屬基底的全口活動義齒比較容易維持乾淨

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  • 答案:B. 金屬基底的全口活動義齒比較不密貼

第4題

把全口活動義齒基底與基底下黏膜之間的空氣排除,使兩者產生負壓的狀態,屬於何種物理性的維持力量? A. 接著 B. 黏著 C. 吸著 D. 緩壓

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  • 答案:C. 吸著

第5題

下列何者最適於承受全口活動義齒之咬合壓力? A. 下顎殘嵴頂(crest of the residual ridge) B. 頰棚(buccal shelf) C. 臼齒後墊(retromolar pad) D. 下顎隆凸(torus mandibularis)

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  • 答案:B. 頰棚(buccal shelf)

第6題

下列何者為正確的全口活動義齒製作之先後順序? A. 個人牙托→咬合基底→工作用模型→咬合器裝戴→人工牙齒排列→齒肉形成→包埋 B. 個人牙托→工作用模型→咬合器裝戴→咬合基底→人工牙齒排列→齒肉形成→包埋 C. 個人牙托→工作用模型→咬合基底→人工牙齒排列→齒肉形成→咬合器裝戴→包埋 D. 個人牙托→工作用模型→咬合基底→咬合器裝戴→人工牙齒排列→齒肉形成→包埋

參考解答

  • 答案:D. 個人牙托→工作用模型→咬合基底→咬合器裝戴→人工牙齒排列→齒肉形成→包埋

第7題

下顎無齒顎中之頰棚(buccal shelf)的敘述,下列何者錯誤? A. 位於下顎殘嵴的大臼齒部頰側附近 B. 在研究用模型上不需要給予緩壓(relief)來製作個人牙托 C. 為頦肌(mentalis muscle)之附著點 D. 適於承受全口活動義齒的咬合壓力

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  • 答案:C. 為頦肌(mentalis muscle)之附著點

第8題

關於製作全口無牙患者個人牙托(individual tray)的敘述,下列何者最正確? A. 在工作用模型(working model)上製作 B. 頰棚區(buccal shelf)需要緩壓(relief) C. 通常使用加熱聚合樹脂 D. 個人牙托的厚度約2 mm

參考解答

  • 答案:D. 個人牙托的厚度約2 mm

第9題

製作全口活動義齒時,會在印模的外圍使用蠟(boxing wax)進行圍盒(boxing),試問圍盒的目的為何? A. 防止灌入石膏時印模材發生變形 B. 使黏膜邊緣部位能在工作用模型上再現 C. 修正印模上不必要之倒凹(undercut) D. 作為溢道使石膏不流入非必要之部位

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  • 答案:B. 使黏膜邊緣部位能在工作用模型上再現

第10題

關於全口活動義齒人工牙齒材料的特性,下列敘述何者錯誤? A. 陶齒需要特別以維持釘或維持孔來與義齒基底樹脂結合 B. 樹脂齒耐磨耗性比陶齒高 C. 臼齒部人工牙齒以義齒的安定和咀嚼效率的提升為重點 D. 臼齒部人工牙齒是在前齒部排列完成後,在咬合器上選擇

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  • 答案:B. 樹脂齒耐磨耗性比陶齒高

第11題

製作全口活動義齒時,在平衡咬合狀態下,其前突運動上、下顎後牙之接觸面為下列何者? A. 上顎頰側咬頭近心面咬到下顎舌側咬頭遠心面 B. 上顎頰側咬頭遠心面咬到下顎舌側咬頭遠心面 C. 上顎舌側咬頭遠心面咬到下顎頰側咬頭近心面 D. 上顎舌側咬頭近心面咬到下顎頰側咬頭近心面

參考解答

  • 答案:C. 上顎舌側咬頭遠心面咬到下顎頰側咬頭近心面

第12題

關於全口活動義齒舌側咬合(lingualized occlusion)的敘述,下列何者錯誤? A. 中心咬合時,後牙上顎舌側咬頭(lingual cusp)和下顎中心窩(central fossa)均勻接觸 B. 可以把咬合力傳導到齒槽嵴舌側,使得義齒容易安定 C. 側方運動時,上下顎頰側咬頭皆不互相接觸,所以平衡不易 D. 側方運動時,工作側上顎舌側咬頭與下顎舌側咬頭內斜面接觸

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  • 答案:C. 側方運動時,上下顎頰側咬頭皆不互相接觸,所以平衡不易

第13題

關於全口活動義齒煮聚的敘述,下列何者錯誤? A. 去蠟過程,蠟過度融解時,會造成聚合後義齒的分離困難 B. 以加壓法填入樹脂缺點是容易造成咬合高度提高的傾向 C. 以灌入法來進行常溫聚合樹脂填入煮聚盒 D. 以流入法填入樹脂對咬合高度比較不會產生影響

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  • 答案:C. 以灌入法來進行常溫聚合樹脂填入煮聚盒

第14題

製作全口活動義齒包埋時,牙體技術師為考量聚合後的去包埋分離便利性,第三層石膏包埋會分兩次灌入,在其第一次灌入的石膏覆蓋至何處最佳? A. 牙齒咬合面上1~2 mm B. 覆蓋牙齒咬合面 C. 牙齒咬合面下2~3 mm D. 牙齒咬合面下4~5 mm

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  • 答案:C. 牙齒咬合面下2~3 mm

第15題

加熱聚合樹脂在聚合(packing)的過程中如果時間、溫度、步驟等沒有操作確實,樹脂聚合會產生失敗,試問下列敘述何者錯誤? A. 聚合時間越長義齒基底的硬度越高 B. 聚合後急速冷卻會造成義齒發生形變 C. 聚合溫度過低會造成義齒基底的硬度下降 D. 過快速或不均勻的加壓會造成人工牙齒的變位或破損

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  • 答案:A. 聚合時間越長義齒基底的硬度越高

第16題

全口義齒製作時,關於去蠟方法的敘述,下列何者最正確? A. 在沸騰的水蒸氣中放置1 分鐘 B. 在沸騰的水中浸泡10 分鐘 C. 在65°C 的溫水中浸泡8 分鐘 D. 在電子微波爐以500 W 加熱5 分鐘

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  • 答案:C. 在65°C 的溫水中浸泡8 分鐘

第17題

全口義齒製作時,關於美國式包埋法操作流程之敘述,下列何者正確? A. 第一次包埋為上半部包埋盒的包埋 B. 第二次包埋為下半部包埋盒內的蠟型義齒周邊部分的包埋 C. 第三次包埋為下半部包埋盒剩餘部分的包埋 D. 必須製作溢道或在樹脂填入時增加試壓次數,以避免最終咬合高度改變

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  • 答案:D. 必須製作溢道或在樹脂填入時增加試壓次數,以避免最終咬合高度改變

第18題

全口活動義齒煮聚完成拆開模盒後,在技工室重置位(laboratory remount)做選擇性側向及前伸移動的咬合調整時,下列敘述何者錯誤? A. 上顎的牙齒修磨近心側斜面 B. 下顎的牙齒修磨近心側斜面 C. 上顎的牙齒修磨頰側咬頭 D. 下顎的牙齒修磨舌側咬頭

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  • 答案:B. 下顎的牙齒修磨近心側斜面

第19題

關於全口活動義齒的選擇性磨修(selective grinding)過程中,於側向移動時發現平衡側(balancing side)接觸過重導致工作側(working side)牙齒沒有接觸,則應調整何處? A. 平衡側下顎的頰側咬頭 B. 平衡側上顎的腭側咬頭 C. 工作側下顎的舌側咬頭 D. 工作側上顎的頰側咬頭

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  • 答案:A. 平衡側下顎的頰側咬頭

第20題

全口義齒製作時,咬合器重置位(remount)的方法,下列敘述何者正確? A. 裂模法(split cast)是利用工作用模型底面的裂模 B. 齒型法(tench)是利用蠟型義齒在包埋後所取得的咬合面齒型 C. 裂模法或齒型法做完後仍需進行面弓轉移(facebow transfer) D. 咬合器上模型重置位必須經過面弓轉移

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  • 答案:A. 裂模法(split cast)是利用工作用模型底面的裂模

第21題

關於咬合器上模型重置位(remount)的齒型法(tench)的敘述,下列何者錯誤? A. 齒型法的紀錄須於蠟義齒包埋前取得 B. 門齒導柱的長度需考慮咬合記錄材料的厚度及樹脂聚合變形量 C. 咬合記錄厚度及樹脂聚合變形量,平均值約0.5 cm D. 義齒送交牙醫師前,需完成技工室平衡咬合修磨

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  • 答案:C. 咬合記錄厚度及樹脂聚合變形量,平均值約0.5 cm

第22題

關於活動義齒研磨的敘述,下列何者最正確? A. 義齒製作時所使用的工作用模型,研磨時無參考價值 B. 附著於義齒的石膏,可用砂紙捲或矽化磨錐來進行去除 C. 使用研磨馬達(lathe)來研磨,通常需要加上研磨材料來防止濕潤並產生摩擦熱 D. 微細部分可使用牙技研磨手機來完成最後研磨

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  • 答案:D. 微細部分可使用牙技研磨手機來完成最後研磨

第23題

關於人工齒選擇磨修的敘述,下列何者錯誤? A. 建議少量多次修磨 B. 對咬合紙印記的部分可兩三回擦拭一次 C. 印記的修磨應該上、下顎交互進行 D. 人工牙齒間無須放置碳化矽(carborundum)泥粒

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  • 答案:B. 對咬合紙印記的部分可兩三回擦拭一次

第24題

全口活動義齒製作時,用來當作功能性印模法(functional impression technique)的襯底墊(reline)材料,印模完成後,最佳完成技工作業期間為下列何者? A. 12 小時內 B. 1 日 C. 3 日 D. 7 日

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  • 答案:A. 12 小時內

第25題

全口活動義齒的襯底墊(reline)更換,是指更換下列何者? A. 中心關係紀錄 B. 人工牙 C. 所有義齒基底材料 D. 部分義齒基底材料

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  • 答案:D. 部分義齒基底材料

第26題

下圖為上顎齒列,依殘留齒與缺牙區的位置關係為甘迺迪(Kennedy)分類法class I 類中那一級? A. 1 級 B. 2 級 C. 3 級 D. 4 級

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  • 答案:A. 1 級

第27題

當上顎牙弓的缺牙位置為左右兩側第三大臼齒、正中門牙、側門牙及左側第一大臼齒,臨床上此種缺牙狀況依甘迺迪(Kennedy)分類法為下列何者? A. I 類,第一變型 B. II 類,第一變型 C. III 類,第一變型 D. IV 類,第一變型

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  • 答案:C. III 類,第一變型

第28題

關於使用鍛製金屬線環狀牙鈎(wrought-wire circumference clasp)於活動局部義齒的敘述,下列何者錯誤? A. 其彈性較佳,鈎尖(clasp tip)可以進入牙齒較深的倒凹區(undercut area) B. 在析量線(survey line)近遠心徑1/3 處便可進入牙齒的倒凹區(undercut area) C. 牙鈎臂(clasp arm)應儘量接近直線,以免太多人工彎曲而破壞內部金屬結構而導致牙鈎斷裂 D. 其可調整性較佳,可以同時具有頰舌側內外方向及咬合面上下方向之調整

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  • 答案:C. 牙鈎臂(clasp arm)應儘量接近直線,以免太多人工彎曲而破壞內部金屬結構而導致牙鈎斷裂

第29題

關於Krol 的RPI clasp 設計應用於遠伸性活動局部義齒(distal free-end RPD)的敘述,下列何者錯誤? A. R 指近心咬合面鈎靠(mesial occlusal rest),提供義齒支持並形成旋轉支點 B. P 指遠心鄰接面板(distal guiding plate),引導義齒戴入與取出途徑 C. I 指頰側I-bar 置於近缺牙區之倒凹(undercut),提供義齒固持力 D. R-P-I 三結構需形成對支柱牙大於180o 之環狀圍繞,以防止義齒側方脫離

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  • 答案:C. I 指頰側I-bar 置於近缺牙區之倒凹(undercut),提供義齒固持力

第30題

圖示為析量器(surveyor)的那個組件? A. 倒凹量器 B. 分析桿 C. 補強鞘 D. 錐形工具

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  • 答案:A. 倒凹量器

第31題

下顎活動局部義齒金屬床舌側槓(lingual bar)設計的敘述,下列何者錯誤? A. 其斷面形態需呈半梨狀(half-pear shape),以提供足夠強度並減少舌頭異物感 B. 使用舌側槓,口底至齒齦邊緣垂直距離需大於8 mm,舌側組織需有適當倒凹以提供水平空間 C. 舌側槓若以鈷鉻合金製作,其寬度需為4~5 mm,厚度需為1~1.5 mm D. 遠伸性活動義齒(distal free-end RPD)須有組織緩壓;牙齒支持的活動義齒(tooth-borne RPD)則不需緩壓

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  • 答案:B. 使用舌側槓,口底至齒齦邊緣垂直距離需大於8 mm,舌側組織需有適當倒凹以提供水平空間

第32題

活動局部義齒之金屬床與樹脂床交接處會形成內外終接線(internal and external finishing line),於金屬支架上之設計,金屬內側與金屬表面形成截面之金屬角度,下列何者正確? A. 外終接線處呈直角 B. 外終接線處呈鈍角 C. 內終接線處呈直角 D. 內終接線處呈鈍角

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  • 答案:C. 內終接線處呈直角

第33題

活動局部義齒支架的蠟型設計是在耐火模型(refractory cast)上進行,關於耐火模型製作的敘述,下列何者錯誤? A. 工作模型經印模複製後所得到的陰模,將耐火模材料灌入所取得的模型稱為耐火模型 B. 製作耐火模型時常使用石膏系包埋材或磷酸鹽系包埋材 C. 為了使雕蠟成型更容易操作,會透過表面處理將耐火模型形成粗糙的表面 D. 耐火模型常見之表面處理方法為浸蠟法

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  • 答案:C. 為了使雕蠟成型更容易操作,會透過表面處理將耐火模型形成粗糙的表面

第34題

關於牙體技術師作業相關之消毒與感染管理控制的敘述,下列何者錯誤? A. 牙醫師於患者口腔內取得的印模,須經過清洗與消毒後才能進行模型製作 B. 石膏為多孔性物質,細菌容易滲入,因此須透過高壓蒸氣滅菌,對石膏模型進行消毒 C. 戒指上的細菌殘留量比手指多,在牙技作業時要避免配戴戒指 D. 戊二醛(glutaraldehyde)及次氯酸鈉(sodium hypochlorite)是牙科常見的消毒劑

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  • 答案:B. 石膏為多孔性物質,細菌容易滲入,因此須透過高壓蒸氣滅菌,對石膏模型進行消毒

第35題

如圖所示,此下顎活動局部義齒之主連接體為下列何者? A. 舌側槓(lingual bar) B. 舌側板(lingual plate) C. 甘迺迪槓(Kennedy bar) D. 唇側槓(labial bar)

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  • 答案:A. 舌側槓(lingual bar)

第36題

下列何種牙鈎(clasp)最不適合應用於甘迺迪I 類局部義齒之小臼齒支柱牙上? A. 鑄造式環周牙鈎(cast circumferential clasp) B. 洛奇牙鈎(Roach clasp) C. 鍛製金屬線牙鈎(wrought wire clasp) D. 組合式牙鈎(combination clasp)

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  • 答案:A. 鑄造式環周牙鈎(cast circumferential clasp)

第37題

個人牙托的製作流程,下列敘述何者錯誤? A. 將倒凹處以石蠟進行封凹 B. 為了確保個人牙托有一致的厚度,殘存齒部位必須要用蠟確實覆蓋 C. 牙托的停止點(stopper)應設置在支柱牙上 D. 攪拌牙托用常溫聚合樹脂,將其平均壓接於模型上,厚度約2 mm

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  • 答案:C. 牙托的停止點(stopper)應設置在支柱牙上

第38題

下圖為個人牙托的剖面圖,請問圖片中①的製作最主要的目的為何? A. 作為印模時咬合壓力的緩衝 B. 取得軟組織受壓力的狀況 C. 填補多餘的倒凹 D. 使牙托維持在適當的位置

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  • 答案:D. 使牙托維持在適當的位置

第39題

牙科臨床常用的義齒基底用樹脂材料的特性與操作何者正確? A. 聚合過程中需混合單體(monomer)粉末與聚體(polymer)液體 B. 粉末的主要成分為甲基丙烯酸甲酯樹脂(methyl methacrylate resin) C. 樹脂填入(packing)過程中,使用油壓機試壓以40 kgf/cm2 為初始壓力 D. 呈現柔軟且拉絲狀態的團狀期(dough stage)樹脂較適合填入

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  • 答案:D. 呈現柔軟且拉絲狀態的團狀期(dough stage)樹脂較適合填入

第40題

下顎單側遠伸性活動局部義齒排牙時,人工義齒在此側之側方運動接觸最理想的設計為何? A. 工作側與平衡側接觸 B. 需有前牙接觸 C. 僅需考慮工作側接觸 D. 側方都不接觸

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  • 答案:C. 僅需考慮工作側接觸

第41題

下顎遠伸性活動局部義齒排列到最後一顆大臼齒時,若未置放在下顎殘嵴後方上升段之前方,會產生下列何種結果? A. 壓迫臼齒後墊(retromolar pad) B. 製造壓力將義齒向前推 C. 造成頰棚(buccal shelf)壓迫疼痛 D. 造成咬合平面不平整

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  • 答案:B. 製造壓力將義齒向前推

第42題

當上顎殘嵴吸收後,若將大臼齒排列在正常頰舌向的水平咬合關係時,人工牙齒的位置常變得比殘嵴還要偏向頰側,最適合以下列何種方法來維持義齒穩定性? A. 加長義齒後緣延伸 B. 選擇尺寸比較小的人工牙齒 C. 藉由襯底來增加固著力 D. 利用工作側與平衡側咬合時同時接觸

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  • 答案:D. 利用工作側與平衡側咬合時同時接觸

第43題

活動局部義齒人工齒選擇,使用樹脂牙(acrylic teeth)與瓷牙(porcalian teeth)的敘述,下列何者錯誤? A. 對咬為自然牙時,選用樹脂牙可減少對咬自然牙的磨耗 B. 對咬為瓷牙時,可考慮使用瓷牙 C. 樹脂牙使用一段時間後,如果有研磨顆粒殘留在咬合面上,可能會磨耗對咬黃金牙冠 D. 樹脂牙不易嵌附黃金材質在其咬合面

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  • 答案:D. 樹脂牙不易嵌附黃金材質在其咬合面

第44題

當上下顎皆為活動義齒,上顎為遠伸性局部義齒(distal extension RPD),而下顎為牙齒支持型局部義齒(tooth-supported RPD),最適當的排列牙齒順序為何? A. 先排列下顎缺牙,再依下顎咬合面排上顎牙 B. 先排列上顎缺牙,再依上顎咬合面排下顎牙 C. 依小臼齒-大臼齒順序,交替排列上下顎牙 D. 依照印模順序來決定那一邊先排

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  • 答案:A. 先排列下顎缺牙,再依下顎咬合面排上顎牙

第45題

上顎全口活動義齒其對咬為下顎雙側遠伸性活動局部義齒(bilateral distal free-end RPD),於製作中欲達到平衡咬合(balanced occlusion)時,側方運動工作側(working side)的BULL 咬合調整法則,是指修磨調整工作側人工牙齒之何處?①上顎顎咬頭之頰側斜面 ②上顎頰咬頭之顎側斜面 ③下顎舌咬頭之頰側斜面 ④下顎頰咬頭之舌側斜面 A. ①④ B. ②③ C. ①③ D. ②④

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  • 答案:B. ②③

第46題

活動局部義齒樹脂煮聚完成後,自石膏模型取下必須經適當之清理、研磨及拋光,下列之處理方式何者錯誤? A. 大塊之石膏塊可以手工去除,再置入石膏溶解液中以超音波振盪清除細部石膏殘留 B. 以尖鋭刀片清除並確定牙鈎(clasp)及鈎靠(rest)內側無殘留的樹脂 C. 義齒拋光面(polishing surface)的金屬與樹脂要適當之研磨及拋光,組織面(tissue surface)則不可拋光 D. 最後放置於清水中用超音波振盪清除殘留研磨及拋光材,之後擦乾放置在真空保存袋中送回牙醫師處

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  • 答案:D. 最後放置於清水中用超音波振盪清除殘留研磨及拋光材,之後擦乾放置在真空保存袋中送回牙醫師處

第47題

活動局部義齒金屬支架斷裂時,使用電焊(electric soldering)或火焰焊接(torch soldering)的敘述,下列何者正確? A. 電焊比火焰焊接較適合用在大範圍的焊接面 B. 若焊接部位離義齒樹脂基底較接近時,使用電焊無須移除基底之樹脂 C. 80%的義齒支架焊接修復可以用火焰焊接解決 D. 電焊後必須注意讓溫度緩慢下降,最後才以浸水降溫

參考解答

  • 答案:B. 若焊接部位離義齒樹脂基底較接近時,使用電焊無須移除基底之樹脂

第48題

當遠伸性活動局部義齒(distal extension RPD)使用一段時間後,下列何種狀況下需要襯底(relining)? A. 與對咬自然牙之咬合變得沒有接觸 B. 金屬支架變形或斷裂 C. 喪失固位力(retention)時 D. 義齒基底破損

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  • 答案:A. 與對咬自然牙之咬合變得沒有接觸

第49題

黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計,下列何者錯誤? A. 義齒基底外形線的設計跟全口義齒同 B. 上顎需延長到鈎狀切跡(hamular notch) C. 下顎頰棚由緻密骨組織所構成,義齒基底應避免覆蓋壓迫 D. 下顎義齒基底後緣要覆蓋至臼齒後墊(retromolar pad)之2/3 以上

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  • 答案:C. 下顎頰棚由緻密骨組織所構成,義齒基底應避免覆蓋壓迫

第50題

牙齒-組織支持之活動局部義齒印模的敘述,下列何者錯誤? A. 在多數齒缺損病例時,可使用聚乙醚(polyether)或矽膠(silicon rubber base),以個人牙托進行印模 B. 可使用藻膠(alginate)或聚乙醚(polyether)橡膠進行正確解剖學之印模 C. 可用個人牙托進行肌肉塑形後,再進行機能性印模為宜 D. 在單側或雙側游離端殘嵴之病例,可使用修正模型技術法(altered cast technique)

參考解答

  • 答案:B. 可使用藻膠(alginate)或聚乙醚(polyether)橡膠進行正確解剖學之印模