黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計，下列何者錯誤？

題目

黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計，下列何者錯誤？ A. 義齒基底外形線的設計跟全口義齒同 B. 上顎需延長到鈎狀切跡（hamular notch） C. 下顎頰棚由緻密骨組織所構成，義齒基底應避免覆蓋壓迫 D. 下顎義齒基底後緣要覆蓋至臼齒後墊（retromolar pad）之2/3 以上

官方答案

• 答案：C. 下顎頰棚由緻密骨組織所構成，義齒基底應避免覆蓋壓迫

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