可撤式局部義齒製作時的義齒基底（denture base）設計考量，下列敘述何者錯誤？

題目

可撤式局部義齒製作時的義齒基底（denture base）設計考量，下列敘述何者錯誤？ A. 基底設計理念是以儘可能覆蓋廣泛的支持組織面積為原則 B. 基底儘可能在生理性範圍內延伸至最長，有助義齒的水平穩定 C. 一般而言，基底與殘嵴組織有愈精密的貼合作用，則義齒的固位作用也愈好 D. 拋光的基底組織面與正確的造型，有助義齒的支持與穩定作用

官方答案

• 答案：D. 拋光的基底組織面與正確的造型，有助義齒的支持與穩定作用

解析

義齒基底的支持來自組織面與殘嵴的廣泛覆蓋及密合，穩定則靠延伸範圍與外（拋光）面造型；組織面（intaglio）必須精確貼合，不能靠拋光增進支持，拋光過度反而破壞密合。D把「拋光的組織面」與支持、穩定連在一起，觀念有誤。A、B、C所述最大覆蓋、在生理範圍內延伸及精密貼合提升固位，均為正確原則。

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官方資料

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