一條件設定為75 kVp、100 mAs的Ｘ光機，在SID為180 cm的地方測得曝露為500 mR，若在同一操作條件下，降低曝露至125 mR，則應增加鋁濾器…

題目

一條件設定為75 kVp、100 mAs的Ｘ光機，在SID為180 cm的地方測得曝露為500 mR，若在同一操作條件下，降低曝露至125 mR，則應增加鋁濾器的厚度為何？（已知鋁的半值層厚度為2.8 mm） A. 2.8 mm B. 5.6 mm C. 8.4 mm D. 11.2 mm

官方答案

• 答案：B. 5.6 mm

解析

曝露由 500 mR 降為 125 mR，衰減為原來的 1/4。依半值層定義，每通過一個 HVL 強度減半，故 1/4 需經過 2 個半值層：1/2 × 1/2 = 1/4。已知鋁的 HVL 為 2.8 mm，所需增加的鋁濾器厚度為 2 × 2.8 = 5.6 mm。1 個 HVL 只能降到 250 mR（A 不足），8.4 mm 會降到 62.5 mR、11.2 mm 會降到 31.25 mR，均過度衰減，故選 B。

AI 參考解析（推得答案已與官方答案比對一致），非官方公告內容，僅供備考參考。

官方資料

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答案以考選部公告之測驗式試題標準答案 PDF 為準。