關於血管內近接治療技術，下列敘述何者錯誤？

題目

關於血管內近接治療技術，下列敘述何者錯誤？ A. 使用密封射源為臨時性植入技術 B. 放射性支架為永久性植入技術 C. 通常需傳送15～20 Gy劑量至靶體積 D. 治療的劑量率至少需大於2 Gy/min

官方答案

• 答案：D. 治療的劑量率至少需大於2 Gy/min

解析

本題詢問錯誤敘述。血管內近接治療（IVBT）以密封射源經導管暫時性植入血管（A 正確）；放射性支架留置體內屬永久性植入（B 正確）；常規處方劑量約 15～20 Gy 至血管壁或靶區（C 正確）。D 稱「治療的劑量率至少需大於 2 Gy/min」並非 IVBT 的普遍標準規範，各射源系統（如 192Ir、90Sr/90Y、32P）的劑量率依設計而異，並無一致之 2 Gy/min 硬性下限，故 D 為錯誤敘述，應選 D。

AI 參考解析（推得答案已與官方答案比對一致），非官方公告內容，僅供備考參考。

官方資料

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