關於以記錄基底（record base）與咬合蠟堤（occlusal wax rim）決定垂直咬合高度（verticaldimension of occlusi…

題目

關於以記錄基底（record base）與咬合蠟堤（occlusal wax rim）決定垂直咬合高度（verticaldimension of occlusion）的敘述，下列何者錯誤？ A. 發S音時，如果上、下蠟堤會相互撞擊，有可能是垂直咬合高度太高 B. 發S音時，如果上、下蠟堤會相互撞擊，有可能是記錄基底不穩 C. 如果蠟堤的位置與形態不對，會影響以發音法決定垂直咬合高度的正確性 D. 以發S音比以吞嚥法決定之垂直咬合高度較低

官方答案

• 答案：D. 以發S音比以吞嚥法決定之垂直咬合高度較低

解析

在利用記錄基底與咬合蠟堤決定垂直咬合高度（VDO）時，吞嚥法（swallowing）通常引導下顎進入中心關係（CR）或緊密閉合位置，此時測得的垂直高度接近或等於咬合垂直高度；而發「S」音（closest speaking space，最接近發音空間，Silverman氏測量）時，上下牙或蠟堤間應維持1～2 mm的微小間隙，此時下顎的高度略低於完全接觸時的垂直高度（咬合垂直高度若以此空隙過度推估，發音時蠟堤不應相碰）。實務上以發S音測得的間隙若被蠟堤填滿相碰，表示VDO過高（A正確）。而發音法決定之高度若與吞嚥法相較，發S音時的下顎位置並非咬合完全接觸，但臨床上吞嚥位常被視為咬合位，吞嚥法決定之高度較發音時完全無接觸的發音高度為高，故D選項敘述為錯誤的比較（或吞嚥法所得垂直高度通常大於或等於發音間隙時的高度）。B、C敘述皆符合臨床判斷，故選D。

AI 參考解析（推得答案已與官方答案比對一致），非官方公告內容，僅供備考參考。

官方資料

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